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          7. 半導(dǎo)體PN結(jié)理論圖
            • 發(fā)布時(shí)間:2020-04-15 15:14:18
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            半導(dǎo)體PN結(jié)理論圖
            當(dāng)N型材料與P型材料熔合在一起時(shí)形成PN結(jié),從而形成半導(dǎo)體二極管。
            在前面的文章中,我們分享了如何通過用少量銻摻雜硅原子來制造N型半導(dǎo)體材料,以及如何通過用硼摻雜另一個(gè)硅原子來制造P型半導(dǎo)體材料。
            這一切都很好,但這些新?lián)诫s的N型和P型半導(dǎo)體材料本身很少,因?yàn)樗鼈兪请娭行缘摹H欢?,如果我們將這兩種半導(dǎo)體材料連接(或熔合)在一起,它們以非常不同的方式合并在一起并產(chǎn)生通常稱為“ PN結(jié) ”的東西。
            當(dāng)首先將N型半導(dǎo)體和P型半導(dǎo)體材料連接在一起時(shí),在PN結(jié)的兩側(cè)之間存在非常大的密度梯度。結(jié)果是來自施主雜質(zhì)原子的一些自由電子開始遷移穿過這個(gè)新形成的結(jié),以填充P型材料中產(chǎn)生負(fù)離子的空穴。
            然而,由于電子已經(jīng)穿過PN結(jié)從N型硅移動到P型硅,它們在負(fù)側(cè)留下帶正電荷的施主離子( N D),現(xiàn)在來自受主雜質(zhì)的空穴遷移穿過在相反方向上的結(jié)連接到存在大量自由電子的區(qū)域。
            結(jié)果,沿著結(jié)的P型電荷密度被帶負(fù)電的受主離子(N A )填充 ,并且沿著結(jié)的N型電荷密度變?yōu)檎?。這種電子和空穴穿過PN結(jié)的電荷轉(zhuǎn)移稱為擴(kuò)散。這些P和N層的寬度取決于每側(cè)摻雜受主密度N A和施主密度N D的重量。
            該過程來回繼續(xù),直到已經(jīng)越過結(jié)的電子數(shù)量具有足夠大的電荷以排斥或防止任何更多的電荷載流子越過結(jié)。最終將發(fā)生平衡狀態(tài)(電中性情況),在結(jié)點(diǎn)區(qū)域周圍產(chǎn)生“勢壘”區(qū)域,因?yàn)楣w原子排斥空穴并且受體原子排斥電子。
            由于沒有自由電荷載流子可以停留在存在勢壘的位置,因此與遠(yuǎn)離結(jié)的N和P型材料相比,結(jié)的任一側(cè)上的區(qū)域現(xiàn)在變得完全耗盡了更多的自由載流子。PN Junction周圍的這個(gè)區(qū)域現(xiàn)在稱為Depletion Layer。
            半導(dǎo)體PN結(jié)
            半導(dǎo)體PN結(jié)
            半導(dǎo)體pn結(jié)圖
            半導(dǎo)體PN結(jié)的每一側(cè)的總電荷必須相等且相反,以保持PN結(jié)周圍的中性電荷條件。因此,如果耗盡層區(qū)域具有距離D,則因此必須在正側(cè)通過Dp的距離進(jìn)入硅,并且負(fù)側(cè)的距離Dn給出兩者之間的關(guān)系:Dp * N A = Dn * N D 以維持電荷中性也稱為平衡。
            半導(dǎo)體PN結(jié)距離
            半導(dǎo)體PN結(jié)
            半導(dǎo)體pn結(jié)距離圖
            由于N型材料已經(jīng)失去電子并且P型失去了空穴,所以N型材料相對于P型變?yōu)檎?。然后,在結(jié)的兩側(cè)上存在雜質(zhì)離子導(dǎo)致在該區(qū)域上建立電場,其中N側(cè)相對于P側(cè)具有正電壓。現(xiàn)在的問題是,自由電荷需要一些額外的能量來克服現(xiàn)在存在的屏障,使其能夠穿過耗盡區(qū)結(jié)。
            這種由擴(kuò)散過程產(chǎn)生的電場在結(jié)點(diǎn)上產(chǎn)生了“內(nèi)置電位差”,具有開路(零偏置)電位:
            半導(dǎo)體PN結(jié)
            半導(dǎo)體PN結(jié)電位圖
            其中:E o是零偏結(jié)電壓,V T是室溫下26mV的熱電壓,N D和N A是雜質(zhì)濃度,n i是本征濃度。
            在半導(dǎo)體PN結(jié)的兩端之間施加的合適的正電壓(正向偏壓)可以提供具有額外能量的自由電子和空穴??朔F(xiàn)有的勢壘所需的外部電壓在很大程度上取決于所用半導(dǎo)體材料的類型及其實(shí)際溫度。
            通常在室溫下,硅的耗盡層上的電壓約為0.6-0.7伏,而鍺的電壓約為0.3-0.35伏。即使器件未連接到任何外部電源,也會始終存在這種勢壘,如二極管所示。
            跨越結(jié)點(diǎn)的這種內(nèi)置電位的重要性在于它反對穿過結(jié)的空穴和電子的流動,這就是它被稱為勢壘的原因。在實(shí)踐中,半導(dǎo)體PN結(jié)形成在單晶材料內(nèi),而不是簡單地將兩個(gè)單獨(dú)的片連接或熔合在一起。
            該過程的結(jié)果是PN結(jié)具有整流電流 - 電壓(IV或I-V)特性。電觸點(diǎn)熔合到半導(dǎo)體的任一側(cè)上,以實(shí)現(xiàn)與外部電路的電連接。所形成的電子器件通常稱為半導(dǎo)體PN結(jié)二極管或簡稱為信號二極管。
            然后我們在這里看到,可以通過將不同摻雜的半導(dǎo)體材料連接或擴(kuò)散在一起來制造PN結(jié),以產(chǎn)生稱為二極管的電子器件,其可以用作整流器的基本半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),所有類型的晶體管,LED,太陽能電池,以及更多這樣的固態(tài)設(shè)備。
            大約在半導(dǎo)體PN結(jié)的下一個(gè)教程中,我們將著重講述最有趣的應(yīng)用程序的一個(gè)PN結(jié)是其在電路中的二極管使用。通過在P型和N型材料的每一端添加連接,我們可以產(chǎn)生一個(gè)稱為半導(dǎo)體PN結(jié)二極管的雙端器件,它可以通過外部電壓偏置,阻止或允許電流流過它。
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